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NBD-T1700-80TIG3Z化學氣相沉積CVD一體機

產(chǎn)品型號:NBD-T1700-80TIG3Z

負責人:周貝貝

QQ:707171058

手機:13526881466

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產(chǎn)品詳情

設備簡介：

化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業(yè)中應用廣泛的用來沉積薄膜材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，以及大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。成套的CVD鍍膜系統(tǒng)，適用于各大高校材料實驗室、科研院所、環(huán)保科學等領域。

技術參數(shù)：

		1.爐體與控制系統(tǒng)集成一體化，使試驗方便快捷直觀。 2.配置浮子流量計或質量流量計混氣氣路，可以單設置氣體流量。 3.PID程序多段控制，實現(xiàn)不同工藝多段溫度時間監(jiān)控。 4.爐襯采用高純氧化鋁輕質纖維材料。 5.配備機械泵或分子真空泵，可以實現(xiàn)不同的真空條件。
產(chǎn)品型號		NBD-T1700-80TIG3Z
工作溫度		≤1650℃
加熱區(qū)尺寸		310mm
恒溫區(qū)尺寸		220mm
升溫速率		≤20℃/min
電氣規(guī)格		AC 220V 4.5KW
控制系統(tǒng)		1、燒結工藝曲線設置：動態(tài)顯示設置曲線，設備燒結可預存多條工藝曲線，每條工藝曲線可自由設置； 2、可預約燒結，實現(xiàn)無人值守燒結工藝曲線燒結； 3、實時顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數(shù)據(jù)，并可導出實現(xiàn)無紙記錄； 4、具有實現(xiàn)遠程操控，實時觀測設備狀態(tài)； 5、溫度校正：主控溫度和試樣溫度的差值，燒結全程進行非線性修正。
氣體系統(tǒng)（可選購）		流量計類型	浮子流量計				質量流量計
	管道示意圖
	進氣接口數(shù)量	2、3、4（多路可選）
	流量范圍	20-200/60-600l/min(多量程可選)				50/100/200sccm(多量程可選)
	工作壓差范圍	0-0.15MPa
低真空系統(tǒng)（可選購）	真空泵型號		NBD-1.5C		NBD-3C		NBD-4C
	抽氣速率		1L/s		3L/s		4L/s
	進排氣口尺寸		Φ8mm寶塔接頭		Φ8mm 寶塔接頭		KF16/25
	壓力		1000Pa		100Pa		10Pa
	工作溫度		5-40℃
	電氣規(guī)格		AC220V
分子泵高真空系統(tǒng) （可選購）	分子泵系統(tǒng)型號		NBD-103(A)		NBD-103(B)		NBD-103(C)
	抽氣速率		110L/s		600L/s		700L/s
	真空測量計		復合真空計
	壓力		10^-3Pa		10^-4Pa		10^-5Pa
	工作溫度			5-40℃
	電氣規(guī)格			AC 220V	AC 220V			AC 380V

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