光譜橢偏儀
南北儀器專業提供實驗室儀器設備一站式解決方案
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ES01系列光譜橢偏儀用于測量單層和多層納米薄膜的層構參數（如，厚度）和物理參數（如，折射率n、消光系數k），也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數k。
ES01系列光譜橢偏儀適合于對樣品進行實時和非實時檢測。
ES01系列尤其適合于科研和工業產品環境中的新品研發。
ES01系列多種光譜范圍可滿足不同應用場合。比如：
ES01系列可用于測量光面基底上的單層和多層納米薄膜的厚度、折射率n及消光系數k。應用領域包括：微電子、半導體、集成電路、顯示技術、太陽電池、光學薄膜、生命科學、化學、電化學、磁介質存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。典型應用如：
ES01系列也可用于測量塊狀材料的折射率n和消光系數k。應用領域包括：固體（金屬、半導體、介質等），或液體（純凈物或混合物）。典型應用包括：
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項目
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技術指標
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光譜范圍
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ES01V：370-1000nm
ES01U：245-1000nm
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光譜分辨率
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1.5nm
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單次測量時間
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典型10s,取決于測量模式
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準確度
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δ(Psi): 0.02 ° ,δ(Delta): 0.04°
（透射模式測空氣時）
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膜厚測量重復性（1）
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0.05nm (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
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折射率精度（1）
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1x10-3 (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
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入射角度
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40°-90°自動調節，重復性0.02°
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光學結構
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PSCA（Δ在0°或180°附近時也具有的準確度）
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樣品臺尺寸
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可放置樣品尺寸：直徑170 mm
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樣品方位調整
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高度調節范圍：0-10mm
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二維俯仰調節：±4°
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樣品對準
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光學自準直顯微和望遠對準系統
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軟件
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•多語言界面切換
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•預設項目供快捷操作使用
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•安全的權限管理模式（管理員、操作員）
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•方便的材料數據庫以及多種色散模型庫
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•豐富的模型數據庫
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選配件
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自動掃描樣品臺
聚焦透鏡
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注：(1)測量重復性：是指對標準樣品上同一點、同一條件下連續測量30次所計算的標準差。
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